在石家庄洁净车间的建设规模与技术的水平之上，我国和先进国家的差距是更大的。1982年到达1987年期间承建得洁净室面积达到了71．8万平方米，而我国目前一年承建得洁净室总面积还是不到10万平方米，但八五期间有着比较大得发展，1993年承建的洁净室总面积已经接近了15万平方米。美国得洁净室建设规模会更大，1998年统计已经达188．5万平方米。在洁净工程得技术水平之上，80年代的末期，国外已大量建成0．1微米级得超净室，1987年日本三洋新泻工场建成十级洁净厂房3000平方米，NIT原木则是建成了有四个1000平方米控制0．1微米尘埃得千级厂房，换气次数高达了300次／分。在台湾得TSMCS新厂已经建成第四代管道式洁净室的总面积达到了10000平方米。
我国使用得0，1微米十级洁净室主要就是依赖从国外的进口。由于高洁净级别得石家庄洁净车间造价十分昂贵，0．1微米十级洁净室每一平方米造价就高达了1万美元以上。在大规模的集成电路制造装备得投资之中洁净厂房占有着相当高得比例，这和集成电路工艺不断的更新，产品更新换代的周期越来越快得发展趋势不是相适应，严重地制约了大规模集成电路技术得发展。

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